半導(dǎo)體工藝廢水處理方法
文章出處:污水處理知識(shí) 責(zé)任編輯:漓源環(huán)保 閱讀量:- 發(fā)表時(shí)間:2021-07-12
標(biāo)簽:半導(dǎo)體工藝廢水處理
今天給大家介紹一下半導(dǎo)體工藝廢水之處理方法,提供一種含有氧化劑、有機(jī)物、無機(jī)物、及氨氮等雜質(zhì)并由數(shù)股半導(dǎo)體工藝廢水匯集而成的綜合廢水的處理方法,并可包含NH4OH淋洗廢水處理、TMAH (四甲基氫氧化銨)黃光工藝廢水處理、或NH4F/F_廢水處理等個(gè)別處理。
水的回收再利用在目前氣候異常變遷的時(shí)代對(duì)高耗水工業(yè)成為必須的方案;工廠對(duì)外來的水源依賴必須大幅度的降低,以降低生產(chǎn)上不確定的因素。水回收率高解決了生產(chǎn)上不確定因素的問題,但也產(chǎn)生另一個(gè)議題環(huán)保排放超標(biāo)問題。工廠使用的化學(xué)藥品量是固定的,一旦水的回收率高,導(dǎo)致排放的水量減少;相同的化學(xué)藥品用量造成了廢水排放濃度過高的問題,因而超標(biāo)。
針對(duì)環(huán)境的議題,環(huán)保的單位也針對(duì)一些因新研究結(jié)果 而發(fā)現(xiàn)對(duì)環(huán)境有不好影響的物質(zhì)加以嚴(yán)格管制,諸如氨氮、總氮(TN)、總磷(TP)。還有一些放流水質(zhì)標(biāo)準(zhǔn)雖已有管制,但在未來仍可能需要更嚴(yán)格的管制,諸如生化需氧量(BOD)、化學(xué)需氧量(C0D)、及懸浮固體(SS)。
半導(dǎo)體工業(yè)廢水所含污染物的種類復(fù)雜(含有機(jī)、無機(jī)、氧化物、氨氮及氟化物等),目前的半導(dǎo)體廠對(duì)于水處理的策略是先將經(jīng)工藝使用過的水進(jìn)行精準(zhǔn)的分類,目前極端的作法是將其分作22類廢水。
含雜質(zhì)濃度較低的直接收集回收作水源;有的雜質(zhì)高一點(diǎn)的經(jīng)R0、離子交換或混凝沉淀處理后再回收用作為水源;其余的水就直接作廢水排放?,F(xiàn)行半導(dǎo)體廠的廢水排放是半導(dǎo)體廠內(nèi)部不同工藝廢水逐步匯集成為一至三股大量復(fù)雜性廢水,再匯集成一股排出工廠。這幾股大量廢水或上游小量體系的廢水名稱眾多紛擾,但大都依其水質(zhì)內(nèi)容物被命名如下,諸如綜合廢水、NH4F/F_廢水、F—廢水、高濃度氨氣淋洗廢水、淋洗廢水、TMAH黃光廢水、臭氧洗凈水、純水系統(tǒng)反洗水等。由于各家電子產(chǎn)品工藝不同、所使用之藥品不同,加上在建廠時(shí)規(guī)劃前段廢水回收情況和工藝廢水水質(zhì)分類不同,故各廠各大量及小量體系廢水的組成、水質(zhì)的變化相當(dāng)大。
半導(dǎo)體工藝廢水匯集成的綜合廢水的處理方法,該綜合廢水不含NH4F/HF緩沖的氧化物蝕刻液,而基本上含有氧化劑、有機(jī)物、無機(jī)物、及氨氮雜質(zhì)。首先對(duì)該綜合廢水進(jìn)行去氧化劑處理;接著以無氧微生物分解方式進(jìn)行處理,使其中所含的雜質(zhì)被部份分解;再以有氧微生物分解方式進(jìn)行處理,使殘留于其中的有機(jī)物及氨氮被進(jìn)一步分解,而得到可回收或排放的廢水。進(jìn)一步包含對(duì)NH4OH淋洗廢水、TMAH黃光工藝廢水、或NH4F/F-廢水進(jìn)行個(gè)別處理的步驟,及將此等個(gè)別處理所得到廢水整合于該綜合廢水的處理方法。
漓源環(huán)保工程師聯(lián)系電話:辛工:13580340580 張工:13600466042